鍍錫凸塊(kuai)Pillar:專為(wei)銅柱上鍍錫凸塊(kuai)工藝設計,電流密度大,沉積(ji)速率高,且凸塊(kuai)均一(yi)。
操作條件
參 數
范 圍
最 佳 值
錫濃度
45 – 55 g/L
50 g/L
酸濃度
80 - 120 g/L
100 g/L
溫度
40 – 60 ℃
50 ℃
REM-3000 A劑
80 – 120 ml
100 ml
REM-3000 B劑
4 – 6 ml
5 ml
溶液攪動
強力攪動
電流密度
5 - 50 ASD
30 ASD